Grundlagen der Fotolithografie I

Dieser Kurs richtet sich an Anfänger*in
Diese Lerneinheit dient zur Einführung in die Fotolithografie, indem die physikalischen und chemischen Grundlagen der Fotolithografie behandelt werden. Zur Vorbereitung auf das praktische Arbeiten in einem Reinraum wird neben der Theorie insbesondere mit Hilfe des Virtuellen Technologielabors (VTL) die Maschinenbedienung der Anlagen im Reinraum näher betrachtet. Die Besonderheit hierbei bietet der Einsatz von virtuellen, interaktiven Maschinensimulationen zum Erlernen der Maschinenbedienung. Der Kurs beinhaltet folgende praktische Versuchsteile:
  • virtuelle Vorbereitung anhand folgender Simulationen: Spin Coater, Hotplate, optisches Schichtdickenmessgerät (FTP).
  • praktische Grundlagen: Sicherheitsunterweisung, Waferhandling, Partikelmessung.
  • Erstellen einer Kontrastkurve sowie Kontrastbestimmung eines Positiv-Resists.
  • Entwicklung und Charakterisierung von Resiststrukturen – Einfluss von verschiedenen Belichtungsmodi auf die Strukturauflösung eines Positiv-Resists.
  • Charakterisierung: Mikroskopie, mechanisches und optisches Profilometer, Rasterkraftmikroskop (AFM).
  • Hochschule Kaiserslautern
  • Zweibrücken & online
auf Anfrage
kostenfrei
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Inhalte & Beschreibung​

Diese Lerneinheit dient zur Einführung in die Fotolithografie, indem die physikalischen und chemischen Grundlagen der Fotolithografie behandelt werden. Zur Vorbereitung auf das praktische Arbeiten in einem Reinraum wird neben der Theorie insbesondere mit Hilfe des Virtuellen Technologielabors (VTL) die Maschinenbedienung der Anlagen im Reinraum näher betrachtet. Die Besonderheit hierbei bietet der Einsatz von virtuellen, interaktiven Maschinensimulationen zum Erlernen der Maschinenbedienung.

Der Kurs beinhaltet folgende praktische Versuchsteile:

  • virtuelle Vorbereitung anhand folgender Simulationen: Spin Coater, Hotplate, optisches Schichtdickenmessgerät (FTP).
  • praktische Grundlagen: Sicherheitsunterweisung, Waferhandling, Partikelmessung.
  • Erstellen einer Kontrastkurve sowie Kontrastbestimmung eines Positiv-Resists.
  • Entwicklung und Charakterisierung von Resiststrukturen – Einfluss von verschiedenen Belichtungsmodi auf die Strukturauflösung eines Positiv-Resists.
  • Charakterisierung: Mikroskopie, mechanisches und optisches Profilometer, Rasterkraftmikroskop (AFM).
In diesem Kurs erhalten Sie Einblicke in die physikalischen und chemischen Grundlagen der Fotolithografie. Neben den theoretischen Lerneinheiten, inklusive selbstreflektierender Wissensüberprüfung, werden zugleich praktische Laborerfahrung via Simulation (virtuelles Training der Maschinenbedienung), Bild- und Videomaterial sowie 3D-Modellen vermittelt.

Zielgruppe

  • Ausbildung zum/r Mikrotechnologen/in und verwandter Berufe (Weiterbildungsangebot – Kooperation mit anderen Universitäten, Berufsschulen, Ausbildungsbetrieben).
  • Kenntnisse/Qualifizierung in Reinraumtechnik und/oder Praxiserfahrung.
  • Weiterbildung im Fach Mikrosystemtechnik – speziell in der Reinraumtechnologie – Fotolithografie (beispielsweise auch Einführung neuer Mitarbeiter/Mitarbeiterschulung).

Teilnahmevorraussetungen

Für die Teilnahme an diesem Kurs sind keine erforderlichen Voraussetzungen geknüpft. Allerdings müssen Sie vor Zutritt in das Labor (Reinraum) die allgemeine Sicherheitsunterweisung sowie die tätigkeitsbezogene Sicherheitsunterweisung erfolgreich absolvieren.

Termine

Nach Vereinbarung

Zertifikate & Abschlüsse

Als Abschluss erhalten Sie eine Teilnahmebestätigung und damit einen anerkannten Nachweis über das Absolvieren dieses Kurses mit praktischer Reinraumerfahrung inklusive einer Auflistung der behandelten Themen und Anlagen und somit über Ihre erworbenen Kompetenzen.

Hochschule Kaiserslautern Fachbereich Informatik und Mikrosystemtechnik

Hochschule Kaiserslautern – aus der Region, für die Region, in die Welt

Die Hochschule Kaiserslautern mit den drei Studienorten Kaiserslautern, Pirmasens und Zweibrücken steht für eine über 160-jährige Tradition in der Ingenieurausbildung. Mit über 70 Studiengängen und Weiterbildungsangeboten mit fachlicher Fokussierung auf Technik, Wirtschaft, Gestaltung und Gesundheit sowie Informatik als integrierender Querschnittskompetenz ist unsere Hochschule für angewandte Wissenschaften ein wichtiger Impulsgeber für die wirtschaftliche und gesellschaftliche Entwicklung in der Region. Praxisnähe, Innovation, Interdisziplinarität, Flexibilität, Regionalbezug und Internationalität zeichnen uns aus.

Kosten

Die Erprobung dieses Kurses wird durch das Bundesministerium für Forschung, Technologie und Raumfahrt im Rahmen des Projekts skills4chips gefördert. Dadurch entstehen für Sie keine Teilnahmegebühren. Im Gegenzug verpflichten Sie sich, an der Evaluation des Kurses teilzunehmen.

Benötigte Arbeitsmaterialien

  • PC mit Internetverbindung (Selbststudium)
  • alle weiteren benötigten Arbeitsmaterialien werden vor Ort gestellt.

Informationen und Beratung

Antoni.Picard@hs-kl.de

Tina.Jene@hs-kl.de

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